近年來本公司多次承辦光學鍍膜設計研習班,深受光學鍍膜界先進肯定並廣受好評。為因應學員要求,本公司訂於52122日再次舉辦光學鍍膜設計研習班,由李正中 博士親自主持,歡迎新舊學員踴躍報名參加。

光學鍍膜產品日新月異,如何設計適當的產品,增加產值與良率及降低製造成本已是當前最重要的課題。連續二天的課程中,將介紹鍍膜原理及鍍膜元件的應用,基材及鍍膜材料特性選擇,如何有效利用鍍膜軟體設計並進而優化與合成,同時針對各產業需求以不同產品實例教導並協助完成設計與分析。應用產品涵蓋投影機、光通訊元件、平面顯示器、數位相機、掃瞄器、眼鏡、光碟機、醫療 、太陽能光電及軍事器材等。

 

 

本班特色著重一人一機實際操演,課堂理論與實務應用並行。 講師與學員電腦連線,依電腦螢幕指令,可快速學習設計要領,藉由功能完整的鍍膜設計軟體,在二天密集課程結束後,除了擁有鍍膜設計理論基礎,更可輕鬆獨力完成光學鍍膜元件的設計與分析。

歡迎各界人士踴躍參加!

主  講  人:李正中 博士 (國立中央大學光電科學與工程學系  系主任)

日        期:中華民國97年5月21、22日(星期三、四)

地        點:資策會教育訓練處台北中心 

                     台北市復興南路一段390號2樓 202教室  Map

 

洽詢電話: (02) 8732-8585     聯絡人:  賴雅惠 小姐

參加費用: 新台幣壹萬元整 (含結業証書、講義、午餐、營業稅)

上課人數: 採小班制20人 (一人一機)

付費方式: 報名同時繳費

                      匯票或即期支票--抬頭為 [宗豪科技股份有限公司] 劃線並禁止轉讓, 以掛號寄 至 [106台北市和平東路三段232號4樓, 宗豪科技股份有限公司 收

                      郵局劃撥--抬頭為 [宗豪科技股份有限公司] , 劃撥帳號 [19549247

報名辦法:  參加者請詳填報名表回傳本公司º  我要報名 

課程內容:
日期 課程內容

時間

5/21

(三)

 

光學鍍膜簡介及理論

太陽光與熱吸收膜理論及設計原理

抗反射膜原理與應用

鍍膜元件實例設計與分析

一人一機電腦實做

 

09:00AM

|

16:00PM

5/22

(四)

 

 

各種濾光片及高反射鏡原理與應用

分光鏡原理與應用

基材及鍍膜材料特性選擇

鍍膜軟體設計, 優化與合成

鍍膜元件實例設計與分析

一人一機電腦實做

 

09:00AM

|

16:00PM


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